Effect of thermal annealing treatments on the optical activation of Tb3+ doped amorphous SiC:H thin films
J. Phys. D: Appl. Phys. 49 (2016) 375104
Autor(es):J. A. Guerra, F. De Zela, K. Tucto, L. Montañez, J. A. Töfflinger, A. Winnacker and R. Weingärtner
Año: 2016
Url: https://doi.org/10.1088/0022-3727/49/37/375104